WLBI设备是专为碳化硅(SiC),氮化镓(GaN)设计打造的晶圆级老化测试系统。该系统可对晶圆进行长时间高温栅极偏压(HTGB)和高温反向偏压(HTRB)老化测试,高效筛选出早期失效的缺陷芯片。系统软件可视化设计,支持在线编辑MAP,可生成详细老化数据。
半自动老化系统B5260M,支持6片同时老化,支持高密度探针卡以及高压Chuck最高可支持一次同时老化720个Die。
全自动老化系统B5260,支持6&8寸晶圆,最多支持12片同时老化测试,最高可支持一次同时老化2640个Die,支持HTRB老化过程对Gate极施加偏压,满足客户多样化测试需求。
高精的温度控制,在10℃/min的升温速率下,保证温度无过冲,温度均匀性小于1℃,且在达到设定温度后,温度波动小于1℃;

HTGB支持±100V
HTRB支持2000V(计划3000V)

反偏测试同时栅极偏压 (B5260支持)
采用针尖和产品PAD定位方式,快、准、稳,重复扎针精度保证20um内
采用基恩士相机,可以根据校准码识别校准,准确率极高
数据图形化,进度状态联同,支持EXCEL &定制MAP制作器,更便捷
B5260M 半自动软件


进度可视化--实时显示工作进度和状态

自动化,无需人工干预,运行可视化,支持续测功能


| 参数类型 | 指标内容 | |
| 系统参数 | 晶圆尺寸 | 4寸、6寸wafer(全自动持8寸) |
| 老化类型 | HTGB, HTRB. VTH | |
| 系统功率 | <30KW(峰值功率) | |
| 单层系统通道 | 720路(全自动2640) | |
| 系统腔室 | 6(全自动最多12) | |
| 单层晶圆单独老化 | 每层独立工作,可实现分批次老化 | |
| 量测性能 | 温度范围 | RT-175℃(均匀性±1℃) |
| 电压范围 | 栅极±100V,源极2000V(计划3000V) | |
| 电压精度 | ±100V源精度:0.05%±20uV | |
| 2000V电源精度:0.1%±10V | ||
| 电流范围 | 1uA/100uA/1mA/10mA/100mA | |
| 电流精度 | 1uA:0.2%±30pA 100uA:0.2%±1nA 1mA:0.2%±10nA 10mA:0.2%±150nA 100mA:0.2%±1μA |
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| 保护功能 | 电流电压过冲 | 无EOS现象 |
| 晶圆加热功能 | 单层可设置温度保护范围,超出范围加热器断电 | |
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输出电流,电压保护(单路独立控制) |
HTGB:输出电流电压无过冲,输出短路保护 HTRB:输出电流电压无过冲,输出短路保护,抑制高压放电 |
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| 单层充氮气 | 防止晶圆表面老化,防止高压打火,预防PAD氧化,提升整体绝缘性能 | |
| 输出阶梯式上电 | 支持 | |
小结
晶圆级老化测试,可以有效的筛选出可靠性存在隐患的芯片,保障封装后的模组在未来的使用中的可靠性,降低后续封装测试的成本,提高出货产品的质量。